Intel制程威胁NV：Larrabee采用45nm

　　【IT168 资讯】fudzilla报道，Intel的独立显卡产品Larrabee图形处理器将采用45nm工艺，预计2009年推出。

　　采用如此先进的工艺将使得Larrabee图形处理器的耗电和性能大大领先，现在不光是AMD在CPU领域，ATI和NV在图形领域也将感受到Intel先进制程带来的压力了。

　　Intel 45nm这种高钾金属栅晶体管和业界普通工艺的晶体管相比，可以显着减少电流的渗漏，最高减少幅度可以达到20%，还可以将晶体管开关功耗降低30%。目前NVIDIA的G80图形芯片采用90nm，晶体管门宽两倍于Intel的45nm Larrabee。