赛扬/三核/45nm 12个项目18款CPU评测

     显然，在2007年底Intel正式发布45nm产品之前，大家还很可能将目光都集中在2008年的Nehalem上。而当Intel自豪的一次次向大家阐述 45nm High-K Metal Gate技术的重要意义后，我们看到摩尔定律在此时只属于Intel。虽然IBM号称已经有了45nm High-K技术，IBM也在65nm中使用了High-K材料，而神奇的是IBM又在前不久突然回头开始45nm 用Low-K更好的论调，前前后后的变化，让众半导体厂商与Intel差距有所拉大。而Intel却悠哉悠哉，用45nm生产凌动处理器了。

    45nm工艺在Intel看来其重要意义在于，在过去的15年中，半导体制造工艺进行了7次的进步，而当来到45nm时，原先使用的栅介质材料由于太薄而造成无法忍受的漏电流，而Intel找到了铪金属氧化物具有更高的介电常数，保证了45nm工艺下晶体管正常的开关。而另一方面，由于High-K材料的使用使栅极的多晶硅材料也不得不更换，Intel发现采用金属栅极可以很好的与High-K栅介质配合。Intel 45nm High-K 金属栅极工艺让摩尔定律寿命至少增加10年。

    而45nm工艺的CPU的确令我们兴奋，功耗的大幅度降低让四核心产品平台也可以变得安静；Intel价格策略让45nm产品价位直接切入现有65nm产品，千元市场竞争力极强；当然，在移动和服务器领域，45nm产品甚至有着比台式机市场更强的渗透力，这些产品出货量已远超台式机。而我们在4月份也将看到1000元以下的主流E7000产品进入台式机市场。这不得不让我们感到来自Intel Tick-Tock策略下的高速的节奏。